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单片湿法刻蚀清洗设备

刷片清洗设备

精密数控多功能外圆磨床

PVT晶体生长炉

电子热场平台是目前先进的PVT晶体生长平台。感应加热由于电磁感应作用，轴向温度和径向温度存在耦合现象，无法兼顾长晶速度和长晶质量。电阻热场生长平台，可对轴向温度和径向温度分别进行精确控制，有利于实现大尺寸晶体生长，并提高晶体生长速度，是未来高品质8英寸碳化硅晶体生长的解决方案之一。

设备特点：

适用于6、8英寸，导电/高纯半绝缘型SiC晶体生长

4组加热器独立控制，灵活的温场调节能力

坩堝系统具备升降、旋转功能，温场更均匀

下装载、上维护，操作便捷

产品应用：

晶体尺寸：6、8英寸

适用材料：碳化硅

适用工艺：物理气相输运法（PVT法）

适用领域：化合物半导体、科研、衬底材料

外延工艺是SIC产业链中非常关键的工艺环节，由于器件基本上都是在外延上实现，所以外延的质量对器件性能的影响非常大，但是外延的质量又受到晶体和衬底加工的影响，处在一个产业的中间核心环节，对产业的发展有着非常关键的作用。

采用CVD法进行SIC同质外延生⻓，同时生产冷壁式水平外延炉和冷壁式垂直外延炉，采用创新的方法，满足行业对外延厚度和掺杂均匀的需求。

水平式CVD设备

垂直式CVD设备

感应式发热      6英寸      单片

电阻式发热      6英寸      单片